[发明专利]光刻设备及用于加载衬底的方法在审
| 申请号： | 202011240044.3 | 申请日： | 2016-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN112255893A | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | A·A·索图特;T·波耶兹 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻设备包括支撑台和气体抽取系统。所述气体抽取系统被配置成当所述衬底正被降低到所述支撑台上时，从在所述支撑台的基底表面与衬底之间的间隙通过至少一个气体抽取开口抽取气体。所述光刻设备被配置使得当在所述衬底与所述支撑平面之间的距离大于阈值距离时从所述间隙以第一加载流率抽取气体，和当在所述衬底与所述支撑平面之间的距离小于所述阈值距离时从所述间隙以第二流率抽取气体，其中所述第二加载流率小于所述第一加载流率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 用于 加载 衬底 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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