[发明专利]半导体封装结构及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202011242550.6 申请日: 2020-11-10
公开(公告)号: CN112103261A 公开(公告)日: 2020-12-18
发明(设计)人: 李晓锋;黄富强 申请(专利权)人: 浙江里阳半导体有限公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L23/31;H01L25/07;H01L25/00;H01L21/60
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 郭燕;彭家恩
地址: 317600 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导体封装结构及其制作方法,其方法包括在半导体芯片的第一表面或第二表面沉积预设厚度的第一金属;使一个半导体芯片上的第一金属与另一个半导体芯片上的第一金属串联接触;将接触后的半导体芯片放置在真空环境中,控制温度参数,使相接触的第一金属熔合在一起,形成合金接触层;将通过合金接触层相连接的多个半导体芯片进行封装。由于在制作过程中,使用的是沉积和真空合金的方法将两个或多个半导体芯片连接起来,并且两个金属接触面熔合形成合金接触层连接更加牢固和均匀,利于电流和热量以及应力的均匀性,提高了多芯片产品的通电流能力及质量稳定性,并且通过此种方法制造的半导体器件中不含铅,便于生产制作无铅绿色环保的器件。
搜索关键词: 半导体 封装 结构 及其 制作方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江里阳半导体有限公司,未经浙江里阳半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011242550.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top