[发明专利]GaN基垂直LED芯片及其制备方法有效
申请号: | 202011243560.1 | 申请日: | 2020-11-10 |
公开(公告)号: | CN112510129B | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | 付羿 | 申请(专利权)人: | 晶能光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;H01L33/46;H01L33/20;H01L33/14;H01L33/00 |
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地址: | 330096 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明提供了一种GaN基垂直LED芯片及其制备方法,从下至上依次包括:支撑衬底、金属反射层、孔洞反射层、P型电流扩展层、有源区发光层、N型电流扩展层及N电极,其中,P型电流扩展层为950~1000℃下生长的P型GaN层;孔洞反射层为500~700℃下生长的P型GaN层,具有V型孔洞。其在P型电流扩展层表面进一步生长具有V型孔洞的空洞反射层,该孔洞反射层和金属反射层的组合形式保证了垂直LED芯片发光效率的同时无需对外延片的上表面进行粗化,以此进一步保证了垂直LED芯片制备过程中的良率和可靠性。 | ||
搜索关键词: | gan 垂直 led 芯片 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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