[发明专利]一种深度处理印染废水中残留锑的工艺在审
| 申请号： | 202011246075.X | 申请日： | 2020-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN112537879A | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 陈国和;侯涛;吴贵亮 | 申请（专利权）人： | 绍兴文理学院 |
| 主分类号： | C02F9/14 | 分类号： | C02F9/14;C02F101/10;C02F101/20;C02F101/22 |
| 代理公司： | 绍兴市寅越专利代理事务所(普通合伙) 33285 | 代理人： | 邓爱民 |
| 地址： | 312000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种深度处理印染废水中残留锑的工艺，包括如下步骤：将印染废水进行预处理和生物沉淀处理，将得到的印染废水放置于反应接触池，并加入吸附材料，搅拌10‑30分钟，得到处理后的含锑印染废水，将处理后的含锑印染废水通过磁分离装置进行固液分离，去除印染废水中的重金属锑，本发明提供了一种操作便捷的深度处理印染废水中残留锑的工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 深度 处理 印染 水中 残留 工艺 | ||
【主权项】：
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