[发明专利]一种机台污染监测装置及加工设备在审
| 申请号： | 202011248081.9 | 申请日： | 2020-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN112271151A | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 蔡明堂;黄宽信 | 申请（专利权）人： | 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 张洋 |
| 地址： | 250000 山东省济南市*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种机台污染监测装置及加工设备，涉及半导体加工设备技术领域。该机台污染监测装置包括多个监测模组和分别与监测模组电连接的控制器，多个监测模组分别被配置于加工设备的多个操作机台内，用于采集每个操作机台内的污染物信息，控制器用于接收每个监测模组采集的污染物信息，并根据每个操作机台的污染物信息判定每个操作机台是否处于污染状态。该机台污染监测装置能够提高机台的污染检查效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 机台 污染监测 装置 加工 设备 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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