[发明专利]一种提高LDS工艺中器件表面喷涂层平整度的方法在审
| 申请号： | 202011250300.7 | 申请日： | 2020-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN112474235A | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | 毛利坚 | 申请（专利权）人： | 昆山丰景拓电子有限公司 |
| 主分类号： | B05D7/02 | 分类号： | B05D7/02;B05D3/00;B05D1/38;C23C18/32;C23C18/38;C23C18/42 |
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| 地址： | 215300 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种提高LDS工艺中器件表面喷涂层平整度的方法，包括在器件表面形成第一喷涂层；利用激光照射具有第一喷涂层的器件的表面，使得在器件的表面形成有图形化的线路走线和凹槽；对器件进行化镀，在凹槽内形成具有电性能的线路；在第一喷涂层的表面和线路的表面形成第二喷涂层。通过在激光镭射前先形成第一喷涂层，然后在激光镭射时，在器件表面形成图形化线路走线的同时将线路走线上方的第一喷涂层一并去除，并保留其他区域的第一喷涂层，进而在进行化镀时不仅不影响线路的形成，还减小了线路表面与第一喷涂层表面的高度差，从而在进行第二次喷涂后能够保证器件表面喷涂层的平整度，解决了现有LDS工艺中喷涂层表面平整度较差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 lds 工艺 器件 表面 喷涂 平整 方法 | ||
【主权项】：
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