[发明专利]空间位阻可调型弱碱光稳定剂的结构及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202011250638.2 申请日: 2020-11-11
公开(公告)号: CN112375252B 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 毛丽娟;刘树柏;赵成世;尹齐伟;丁轶凡;王以菲;罗瑞;陈秀颖;王纪江;李静;徐春娟;宋金鸽;陈俊;虞美雅 申请(专利权)人: 绍兴瑞康生物科技有限公司
主分类号: C08K5/3435 分类号: C08K5/3435;C08K5/20;C08K5/357;C08K5/3462;C08K5/544;C08K5/17;C08L23/12;C07D211/14;C07C237/10;C07C237/06;C07D295/15;C07C229/16;C07F7/18;C07C
代理公司: 北京惠科金知识产权代理有限公司 11981 代理人: 苑朝阳
地址: 312000 浙江省绍兴市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本发明专利属于新化合物及其合成方法领域,具体涉及空间位阻可调型弱碱光稳定剂的结构及其制备方法和应用。本发明的创新型光稳定剂通过在以上七个结构通式中建立氮原子周边产生空间位阻的取代基大小从而进行调整其空间位阻,此外,通过调整极性基团的远近可以影响氮原子的电负性,从而调整了它的碱性或亲核性能。通过调控氮原子所处环境中的空间位阻和亲核性能或碱性获得所想要的效果,进而拓宽这类创新型光稳定剂的应用范围,使其适于PC,聚酯,PVC等偏酸性或具有一定亲电性高分子材料使用作为光稳定性保护助剂。
搜索关键词: 间位 可调 弱碱 稳定剂 结构 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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