[发明专利]一种基于纳米结构的结势垒肖特基二极管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011253021.6 申请日: 2020-11-11
公开(公告)号: CN112382671A 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 尹以安;李佳霖;毛明华 申请(专利权)人: 迪优未来科技(清远)有限公司;华南师大(清远)科技创新研究院有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/868;H01L29/06;H01L29/267;H01L21/34
代理公司: 北京清控智云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11919 代理人: 仵乐娟
地址: 511518 广东省清远市高新技术产业开发区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种纳米结构的结势垒肖特基二极管及其制备方法,其包含依次设置于衬底上的n+型β‑氧化镓纳米柱、β‑氧化镓本征层、p型氮化镓纳米线阵列、阳极金属填充层以及阳极保护层,阳极金属填充层填充p型氮化镓纳米线阵列的间隙,与本征层形成肖特基接触,β‑氧化镓纳米柱水平设置于衬底上,其一端面设置与其形成欧姆接触的阴极,实现了pin结与肖特基二极管相结合,使得该微型化的肖特基二极管在保持低导通电压的同时具有低反向漏电流和耐压高的特性,同时本发明的器件结构在材料的选择和生长方面进一步提高了二极管的生长质量,在纳米电子及光电子器件中具有巨大的应用前景。
搜索关键词: 一种 基于 纳米 结构 结势垒肖特基 二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
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