[发明专利]非真空坩埚下降法生长锂铊共掺碘化钠闪烁晶体的方法在审

专利信息
申请号: 202011255588.7 申请日: 2020-11-11
公开(公告)号: CN114481320A 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 吴云涛;史坚;李焕英;任国浩 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C30B29/12 分类号: C30B29/12;C30B11/02;G01T1/202
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲;郑优丽
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及非真空坩埚下降法生长锂铊共掺碘化钠闪烁晶体的方法,包括:(1)选用NaI、6LiX和TlX作为原料,再与脱氧剂混合后,置于坩埚中并密封;(2)将密封后的坩埚竖直置于晶体生长炉的中间位置,然后升温至700~1000℃并保温一定时间,使原料完全熔融;(3)设置固液界面的温度梯度为10~50℃/cm,坩埚下降速度为0.1~10mm/小时,开始锂铊共掺碘化钠闪烁晶体的生长;(4)生长结束后,降至室温。
搜索关键词: 真空 坩埚 下降 生长 锂铊共掺 碘化钠 闪烁 晶体 方法
【主权项】:
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