[发明专利]电子级多晶硅清洗系统和方法在审
| 申请号： | 202011255660.6 | 申请日： | 2020-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN112209383A | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 吴锋;沈棽;吴家印 | 申请（专利权）人： | 江苏鑫华半导体材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 周慧云 |
| 地址： | 221004 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了电子级多晶硅清洗系统和方法。该电子级多晶硅清洗系统包括：第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽。其中，所述第一清洗槽、所述第二清洗槽、所述第三清洗槽、所述第四清洗槽内装有氢氟酸、硝酸和水的混合液，所述第五清洗槽内装有水。该电子级多晶硅清洗系统可显著提高硅块的清洗效果，并减少清洗液用量。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 多晶 清洗 系统 方法 | ||
【主权项】：
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