[发明专利]抛光垫修整装置、化学机械抛光装置和方法在审
| 申请号： | 202011262127.2 | 申请日： | 2020-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN112571281A | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 马成斌;季文明 | 申请（专利权）人： | 上海新昇半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017;B24B49/12;B24B37/00 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 高伟 |
| 地址： | 201306 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种抛光垫修整装置、化学机械抛光装置和方法。所述装置包括修整器，用以修整抛光垫；和数据采集装置，用以采集与所述抛光垫表面状态相关的状态数据，所述修整器根据所述状态数据对所述抛光垫进行修整。根据本发明的抛光垫修整装置、化学机械抛光装置和方法，通过对抛光垫表面的状态进行监控，根据抛光垫表面的状态控制对抛光垫表面进行修整的频率，及时对抛光垫进行修整。有效减少了抛光垫在化学机械抛光过程中的釉化层的累积，使晶圆的去除量或者厚度保持稳定；减少抛光垫的更换频率，减少了化学机械抛光工艺中的成本、人力，提升了机台产能。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 修整 装置 化学 机械抛光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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