[发明专利]一种用于精细调控二阶非线性光学过程的方法有效

专利信息
申请号: 202011266173.X 申请日: 2020-11-13
公开(公告)号: CN112269264B 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 冯霞;杨波;秦亦强;张超;朱永元;洪煦昊;赵瑞智;陈涌创;邹谨成 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02F1/35
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 卢霞
地址: 210000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种通过人工微结构设计精细调控二阶非线性光学过程的方法。传统的准相位匹配(QPM)理论通过设计光学超晶格对非线性过程提供相位匹配,其中光学超晶格的周期由非线性过程中的波矢失配所决定。理论计算表明这种方法无法严格确保非线性过程中能量和相位变换的单向性,在高转换效率的情况会产生显著误差,并且难以在相位匹配的同时对谐波相位进行调控。本发明提出在设计超晶格结构时引入相对相位差角这一参量,通过选取合适的相对相位差角,可以精细调控非线性过程中的倍频波或基波的能量变化和相位变化,在提高非线性过程转换效率方面有重要应用。
搜索关键词: 一种 用于 精细 调控 非线性 光学 过程 方法
【主权项】:
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