[发明专利]图像传感器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202011269572.1 申请日: 2020-11-13
公开(公告)号: CN112397539A 公开(公告)日: 2021-02-23
发明(设计)人: 鲁林芝;施森华;王同信 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供的图像传感器及其制作方法,包括:提供一衬底,衬底上分布有若干像素单元,像素单元位于衬底内的第一类型阱区中;刻蚀衬底,形成位于相邻的所述像素单元之间的隔离沟槽;对隔离沟槽的周圈衬底进行第二类型的离子注入,第二类型的离子与第一类型阱区中的离子形成PN结;隔离层填充隔离沟槽。像素单元之间的隔离将深沟槽隔离(DTI)与离子注入形成PN结隔离相结合,在隔离沟槽的周圈衬底内形成PN结,阻挡隔离沟槽附近因缺陷产生的载流子自由进入读取区和感光区,减小暗电流的同时具有良好的电性和光学隔离效果,并且减小了隔离区的面积,提高了图像传感器的芯片面积利用率。
搜索关键词: 图像传感器 及其 制作方法
【主权项】:
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