[发明专利]膜层应力测量装置及测量方法在审

专利信息
申请号: 202011279030.2 申请日: 2020-11-16
公开(公告)号: CN112525395A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 杨稳华 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G01L1/24 分类号: G01L1/24
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 张晓薇
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请公开一种膜层应力测量装置及测量方法,所述膜层应力测量装置用于测量待测膜层在可靠性测试中释放的应力,包括:载体,用于贴附所述待测膜层,所述待测膜层在第一方向和与所述第一方向交叉的第二方向上设置有多个测量点位;载台,用于支撑所述载体;检测装置,与所述载台垂直设置,用于对可靠性测试前和可靠性测试后的所述待测膜层上的每个所述测量点位进行测量;分析控制系统,电性连接于所述检测装置,用于对所述检测装置得到的测量结果进行分析,得到所述待测膜层在可靠性测试前和可靠性测试后的曲率半径及在可靠性测试中释放的应力,以实现对待测膜层在可靠性测试中释放应力的测量。
搜索关键词: 应力 测量 装置 测量方法
【主权项】:
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