[发明专利]用于高通量材料表征的二维扫描系统及测量方法在审
| 申请号： | 202011279484.X | 申请日： | 2020-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN114509406A | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 岳洋;王晓妍;胡家赫;许天旭;王志 | 申请（专利权）人： | 南开大学 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300071*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： |
用于高通量材料表征的二维扫描系统与方法，应用于高通量材料表征与扫描领域。本发明提出了三种不同的二维扫描系统与方法，其均由激光器、高效分光单元、样品、光电探测器组成，实现高采样速度、大数据量、高空间/时间分辨率的材料扫描。基于空间逐点法的二维扫描系统，采用单一MEMS镜和二维1×n |
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| 搜索关键词： | 用于 通量 材料 表征 二维 扫描 系统 测量方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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