[发明专利]三种工作模式的低温兼容压电纳米位移台有效

专利信息
申请号: 202011282167.3 申请日: 2020-11-16
公开(公告)号: CN112436753B 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 程光磊;蔡方煦;黄成园;王浩远;杜江峰 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: H02N2/00 分类号: H02N2/00;H02N2/02;H02N2/04;H02N2/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 孙蕾
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种压电纳米位移台,包括水平位移台、z方向位移管、连接零件和样品盘;其中:水平位移台,包括两个压电陶瓷堆、电容传感器和机械放大结构,两个水平位移台通过中间连接板连接,从而具备水平x、y两个方向的扫描能力;z方向位移管,包括压电陶瓷管、绝缘管、升降柱、弯曲弹簧片和蓝宝石片,用于实现所述升降柱的步进上升和步进下降;连接零件,包括绝缘连接器、水平位移台连接器和位移台外壳,用于组装连接z方向位移管和水平位移台;样品盘,包括上样品盘、中样品盘、下样品盘、半球蓝宝石珠、样品盘弹簧片和受压平台;通过这些结构部分的相互连接及相互配合实现样品盘沿z方向的步进上升与步进下降。
搜索关键词: 工作 模式 低温 兼容 压电 纳米 位移
【主权项】:
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