[发明专利]一种镀层结构、钕铁硼磁体及其制备方法在审
| 申请号： | 202011284127.2 | 申请日： | 2020-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN112420314A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 郝志平;王佳兴;李渊;罗赣;白兰 | 申请（专利权）人： | 北京麦戈龙科技有限公司;天津沃尔斯科技有限公司;包头麦戈龙科技有限公司 |
| 主分类号： | H01F7/02 | 分类号： | H01F7/02;H01F1/057;H01F41/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101300 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种镀层结构、钕铁硼磁体及其制备方法，属于电磁领域。一种镀层结构，包括用于包括产品的底层和外表层，还包括位于底层和外表层之间的镍磷合金化学镀层，一种带有镀层结构的钕铁硼磁体，所述磁铁包裹有所述的镀层结构，烧结钕铁硼磁体的镀层结构的制备方法，包括以下步骤：S1、对磁铁进行前处理；S2、在所述磁铁表面形成一层含锌层；S3、在含锌层上形成一层镍磷合金化学镀层；S4、在镍磷合金化学镀层上形成一层镍层；本发明消除了在锌电镀层与铜电镀层之间，或者锌电镀层与镍电镀层之间产生夹杂的、疏松的、结合力极低的置换铜层或者置换的镍层而非电镀层，从而获得更高的高温极冷热振效果，可以耐受到300～350℃环境。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀层 结构 钕铁硼 磁体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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