[发明专利]卤键共晶材料及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202011287033.0 | 申请日： | 2020-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN112374965A | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 朱伟钢;孙玲杰;胡文平 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C07C25/13 | 分类号： | C07C25/13;C07C17/35;C07C17/392;C09K11/06;C30B7/06;C30B29/54 |
| 代理公司： | 天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙) 12214 | 代理人： | 李蕊 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种卤键共晶材料及其制备方法和应用，制备方法包括：将第一组分材料和第二组分材料溶解在有机溶剂中，得到混合溶液，将所述混合溶液滴在基片上，避光静置10～60min，以使所述有机溶剂挥发，得到卤键共晶材料，本发明采用简易、时间周期短、成本低的溶剂挥发方法，得到了摩尔比为2:1或1:1的多种卤键共晶材料，生长制备过程的产率全部为100％。 | ||
| 搜索关键词： | 卤键共晶 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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