[发明专利]一种纳米压印模板及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202011289118.2 | 申请日： | 2020-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN112305859B | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 陈佩佩;褚卫国;田毅;黄辉;徐丽华;徐陶然 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种纳米压印模板及其制备方法和应用，所述纳米压印模板包括依次层叠设置的硬质承载背板、弹性层和硬质模板层；所述硬质模板层包括至少两个互不接触的压印模块，所述压印模块包括层叠设置的第一模板层和第二模板层，所述第二模板层靠近所述弹性层；在垂直于所述硬质承载背板方向，所述第一模板层的投影面积小于所述第二模板层的投影面积；所述第一模板层上设置有压印图形区，所述压印图形区周围存在贯通式沟道结构的应力分化区。所述应力分化区用于调整压印过程中图形区的受压应力。本发明提供的纳米压印模板显著提升了压印模板/压印胶界面微区应力分布的均一性，及模块之间应力应变容许度，从而显著提升了单次大面积压印成功率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 压印 模板 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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