[发明专利]电子级多晶硅清洗方法有效
| 申请号： | 202011290207.9 | 申请日： | 2020-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN112390259B | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | 吴锋;张天雨;孙江桥 | 申请（专利权）人： | 江苏鑫华半导体材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037;C30B33/10 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 周慧云 |
| 地址： | 221004 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明公开了电子级多晶硅清洗方法。该电子级多晶硅清洗方法包括：利用第一至第八清洗液一次对硅块进行清洗处理。第一清洗液为NaOH溶液或KOH溶液；第二清洗液为HNO |
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| 搜索关键词： | 电子 多晶 清洗 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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