[发明专利]一种倒梯形光刻胶侧壁形貌的制备方法及光刻胶在审
| 申请号： | 202011297090.7 | 申请日： | 2020-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN114518699A | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 葛欢;田亮;姜春艳;吴斌;齐向 | 申请（专利权）人： | 全球能源互联网研究院有限公司;国家电网有限公司;国网山东省电力公司泰安供电公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京安博达知识产权代理有限公司 11271 | 代理人： | 徐国文 |
| 地址： | 102209 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种倒梯形光刻胶侧壁形貌的制备方法及光刻胶，其包括：预处理晶圆和中心定位；在所得晶圆上涂光刻胶和前烘；再次涂光刻胶和前烘；曝光、显影和坚膜；本发明提供的技术方案有效提高了lift‑off工艺掩膜层侧壁形貌的可控性，实现了图形的精准转移，且操作方法简单。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 梯形 光刻 侧壁 形貌 制备 方法 | ||
【主权项】：
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