[发明专利]一种除垢剂及其应用在审
| 申请号： | 202011308806.9 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN112410007A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 蔡佳玲;冯佳慧;冯宇;李爽;胡艳琴;刘付平;李嘉辉;刘伟刚;孔杰;吴奇;张峰;张子敏;余豪奇;熊有恒;何非凡;吴勇进;花榕;陈焕文;刘云海;柳和生 | 申请（专利权）人： | 东华理工大学 |
| 主分类号： | C09K8/524 | 分类号： | C09K8/524;C09K8/528 |
| 代理公司： | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人： | 任霜 |
| 地址： | 330013 江西省南*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： |
本发明涉及除垢技术领域，尤其涉及一种除垢剂及其应用。本发明提供的除垢剂中的HClO |
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| 搜索关键词： | 一种 除垢剂 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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