[发明专利]密封结构及其形成方法在审
| 申请号： | 202011309753.2 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN112833181A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | U·P·卡马尔卡;D·里克特;K·K·古普塔;J·J·加西亚;E·W·米勒 | 申请（专利权）人： | IP传输控股公司 |
| 主分类号： | F16J15/06 | 分类号： | F16J15/06;F16J15/12;F16H57/029 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 邓雪萌;刘茜 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 密封结构及其形成方法。密封结构可包括主体的外表面的突出部分。突出部分的内表面可限定通道的至少一部分。突出部分可被配置为响应于通过抵靠接触构件的接触表面按压突出部分的外表面产生的载荷而接合通道并且至少部分变形到该通道中，以在主体和接触构件之间提供密封。密封结构可作为整体物体在主体内一体地形成。主体可在密封结构的操作期间面向接触构件的接触表面。方法可包括通过额外地熔合材料用一体密封结构形成整体主体，使得主体具有面向接触构件的接触表面的外表面。 | ||
| 搜索关键词： | 密封 结构 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
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