[发明专利]次氯酸烷基季铵盐溶液、其制造方法和半导体晶圆的处理方法在审
| 申请号： | 202011312540.5 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN112831379A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 下田享史;吉川由树;佐藤伴光;根岸贵幸 | 申请（专利权）人： | 株式会社德山 |
| 主分类号： | C11D1/62 | 分类号： | C11D1/62;C11D3/04;C11D7/10;C11D7/32;C07C209/68;C07C211/63;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种次氯酸烷基季铵盐溶液、其制造方法和半导体晶圆的处理方法。本发明提供保存稳定性优异的次氯酸烷基季铵盐溶液的制造方法。具体而言，提供一种次氯酸烷基季铵盐溶液的制造方法，其包括：准备工序，准备氢氧化烷基季铵盐溶液，使该氢氧化烷基季铵盐溶液所含的胺的浓度为20质量ppm以下；以及反应工序，使前述氢氧化烷基季铵盐溶液与氯气接触，反应工序中的气相部的二氧化碳浓度为100体积ppm以下，反应工序中的液相部的pH为10.5以上。 | ||
| 搜索关键词： | 次氯酸 烷基 铵盐 溶液 制造 方法 半导体 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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