[发明专利]一种Halbach永磁体结构的磁控溅射靶枪有效

专利信息
申请号: 202011313333.1 申请日: 2020-11-20
公开(公告)号: CN112831762B 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 陈丽娜;刘荣华;都有为 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;H01F41/18
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 陈建和
地址: 210093 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种Halbach永磁体结构的磁控溅射靶枪,包括水冷部件、磁靶基座、绝缘陶瓷板、磁靶和靶罩;所述基座安装在水冷头上,所述磁靶放置在所述基座上,所述绝缘板安装在所述基座与所述磁靶之间,所述靶罩套在磁靶外面,作为溅射高压阴极,并起到防止靶材和磁靶污染的作用;所述磁靶基座由高导热率的无氧铜加工而成,在所述磁靶基座内设有容纳磁铁组的凹槽,起到固定和冷却磁靶的作用;磁靶是由一个轴向磁化的环状永磁体、一个径向磁化环状或组合环状永磁体和一个轴向磁化圆柱型永磁体按照哈尔巴赫阵列结构排列的永磁体组;所述哈尔巴赫永磁铁组放置在所述磁靶基座的凹槽内,所述靶材置于所述永磁体组上方。
搜索关键词: 一种 halbach 永磁体 结构 磁控溅射
【主权项】:
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