[发明专利]一种部分遮挡工况下的面部表情识别方法有效
申请号: | 202011317662.3 | 申请日: | 2020-11-23 |
公开(公告)号: | CN112418085B | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 张立军;蒋秋宇;孟德建;李聪聪 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | G06V40/16 | 分类号: | G06V40/16;G06V10/28;G06V10/44;G06V10/77;G06V10/764;G06T5/30;G06T5/40 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 杨宏泰 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种部分遮挡工况下的面部表情识别方法,包括以下步骤:S1:获取识别对象的未受遮挡面部图像,计算平均脸信息熵图,并构建面部投影空间;S2:获取同一识别对象的部分遮挡面部图像,计算部分遮挡面部信息熵图,并将部分遮挡表情投影到面部投影空间;S3:利用平均脸信息熵图和受遮挡面部信息熵图,得到受遮挡区域定位;S4:利用面部投影空间和受遮挡区域定位,重构得到无遮挡面部重构图像;S5:利用无遮挡面部重构图像中的遮挡区域和部分遮挡面部图像中的未受遮挡区域,获得重构后的面部图像;S6:对重构后的面部图像进行特征提取和分类,得到表情识别结果,与现有技术相比,本发明具有鲁棒性高等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 部分 遮挡 工况 面部 表情 识别 方法 | ||
【主权项】:
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