[发明专利]一种高能微焦点X射线生产设备在审

专利信息
申请号: 202011319587.4 申请日: 2020-11-23
公开(公告)号: CN112291912A 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 李鹏;王建新;周征;胡栋材;肖德鑫;吴岱;黎明;杨兴繁;王远;王孝忠;赵剑衡;陈门雪;鲁燕华;王汉斌;刘宇;单李军;沈旭明;和天慧;徐勇;周奎;劳成龙;罗星;白燕;闫陇刚;邓德荣;陈立均;刘婕;张德敏;潘清;柏伟;陈亚男;邓仕钰;李文君;宋志大;张成鑫;刘清华;李敬;李寿涛;李世根;程云;蒲晓媛;涂国锋;蔡哲;陈云斌;力涛;石正军;罗为;刘春林;张小丽;张冬;余虹;丁玉寿;李雷 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
主分类号: H05G2/00 分类号: H05G2/00;G01N23/046;G01B15/00
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 于晶晶
地址: 621900 四川省绵阳市*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种高能微焦点X射线生产设备,包括用于生成高能电子束的电子源组件和用于被电子束轰击生成高能X射线的旋转靶设备,电子源组件生成的高能聚焦电子束轰击到旋转靶设备上生成高能微焦点X射线。本申请通过采用特定的电子源和直线加速器相配合,提供长宏脉冲高平均流强的电子束,再通过螺线管和强聚焦四极透镜组的聚焦,将长宏脉冲高平均流强的电子束横向尺寸在打靶位置聚焦到比较小的尺寸,并通过束斑测量组件对电子束横向尺寸进行精确测量控制,将束斑尺寸控制到0.1mm以下,实现高能微焦点X射线输出的目的。
搜索关键词: 一种 高能 焦点 射线 生产 设备
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院应用电子学研究所,未经中国工程物理研究院应用电子学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011319587.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top