[发明专利]一种高能微焦点X射线生产设备在审
申请号: | 202011319587.4 | 申请日: | 2020-11-23 |
公开(公告)号: | CN112291912A | 公开(公告)日: | 2021-01-29 |
发明(设计)人: | 李鹏;王建新;周征;胡栋材;肖德鑫;吴岱;黎明;杨兴繁;王远;王孝忠;赵剑衡;陈门雪;鲁燕华;王汉斌;刘宇;单李军;沈旭明;和天慧;徐勇;周奎;劳成龙;罗星;白燕;闫陇刚;邓德荣;陈立均;刘婕;张德敏;潘清;柏伟;陈亚男;邓仕钰;李文君;宋志大;张成鑫;刘清华;李敬;李寿涛;李世根;程云;蒲晓媛;涂国锋;蔡哲;陈云斌;力涛;石正军;罗为;刘春林;张小丽;张冬;余虹;丁玉寿;李雷 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院应用电子学研究所 |
主分类号: | H05G2/00 | 分类号: | H05G2/00;G01N23/046;G01B15/00 |
代理公司: | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 于晶晶 |
地址: | 621900 四川省绵阳市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开一种高能微焦点X射线生产设备,包括用于生成高能电子束的电子源组件和用于被电子束轰击生成高能X射线的旋转靶设备,电子源组件生成的高能聚焦电子束轰击到旋转靶设备上生成高能微焦点X射线。本申请通过采用特定的电子源和直线加速器相配合,提供长宏脉冲高平均流强的电子束,再通过螺线管和强聚焦四极透镜组的聚焦,将长宏脉冲高平均流强的电子束横向尺寸在打靶位置聚焦到比较小的尺寸,并通过束斑测量组件对电子束横向尺寸进行精确测量控制,将束斑尺寸控制到0.1mm以下,实现高能微焦点X射线输出的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 高能 焦点 射线 生产 设备 | ||
【主权项】:
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