[发明专利]一种厚膜声表面波滤波器干法刻蚀工艺方法在审

专利信息
申请号: 202011319693.2 申请日: 2020-11-23
公开(公告)号: CN112600530A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 景苏鹏;张雪奎 申请(专利权)人: 景苏鹏
主分类号: H03H9/25 分类号: H03H9/25;H03H9/64
代理公司: 苏州金项专利代理事务所(普通合伙) 32456 代理人: 金星
地址: 215600 江苏省苏州市张家港经*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种厚膜声表面波滤波器干法刻蚀工艺方法,包括以下步骤:S1、将声表器件放入等离子刻蚀腔体内;S2、抽真空;3、往等离子刻蚀腔体内通入45‑55sccm的BCl3、9‑12sccm的Cl2、13‑16sccm的N2混合气体进行一次刻蚀;S4、停止充入BCl3和Cl2气体,N2的流量控制为14‑15sccm;S5、停顿;S6、二次刻蚀;S7、二次钝化。该干法刻蚀工艺方法能够实现厚膜声表器件的干法刻蚀,保证了器件指条线宽均匀,产品的性能稳定。
搜索关键词: 一种 厚膜声 表面波 滤波器 刻蚀 工艺 方法
【主权项】:
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