[发明专利]一种TC-SAW的金属电极制造方法有效
| 申请号： | 202011320104.2 | 申请日： | 2020-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN112491380B | 公开（公告）日： | 2023-10-20 |
| 发明（设计）人： | 宋晓辉;许欣;翁志坤;冉忠堂 | 申请（专利权）人： | 广东广纳芯科技有限公司 |
| 主分类号： | H03H3/10 | 分类号： | H03H3/10;H03H9/02;H03H9/145 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 邓晔 |
| 地址： | 510700 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种TC‑SAW的金属电极制造方法，所述方法包括：于压电材料衬底上沉积第一IDT金属层；形成第一正性光刻胶层；形成一次IDT图形；对所述第一IDT金属层进行刻蚀，以暴露出部分所述压电材料衬底，并形成与所述一次IDT图形相应的指状电极；沉积第二IDT金属层；去除第一正性光刻胶层以及在第一正性光刻胶层上沉积的所述第二IDT金属层，以露出所述第一IDT金属层；在所述第一IDT金属层和所述第二IDT金属层上形成第一介质层；形成第二正性光刻胶层；形成二次IDT图形；剥离部分所述第一介质层以及部分所述第二IDT金属层，以露出部分所述压电材料衬底；去除所述第二正性光刻胶层；在所述第一介质层及暴露出的部分所述压电材料衬底上沉积第二介质层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 tc saw 金属电极 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东广纳芯科技有限公司，未经广东广纳芯科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011320104.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
