[发明专利]一种新型碳化硅陶瓷表面自动均匀上釉装置在审
申请号: | 202011323532.0 | 申请日: | 2020-11-23 |
公开(公告)号: | CN112388810A | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 冯飞飞 | 申请(专利权)人: | 广州元开科技技术有限公司 |
主分类号: | B28B11/04 | 分类号: | B28B11/04 |
代理公司: | 北京高航知识产权代理有限公司 11530 | 代理人: | 乔浩刚 |
地址: | 510700 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及新材料技术领域,且公开了一种新型碳化硅陶瓷表面自动均匀上釉装置,包括箱体,所述活动杆的下端固定连接有双面卡齿,所述双面卡齿的外部啮合连接有驱动齿轮,所述双面卡齿的下端活动套接有支撑杆,所述双面卡齿的下端套接有卡接盘,所述卡接盘的两端固定连接有电磁铁,所述滑杆的上端活动连接有放置盘,所述放置盘的两端活动连接有夹持块,所述夹持块的内部固定连接有永磁铁,所述推杆的外部固定连接有定位装置,所述离心装置的外部固定连接有金属条,所述箱体的内部固定连接有加热装置,所述箱体的内部固定连接有上釉喷头。该装置具有可一边旋转一边进行上釉,同时在上釉完毕后对其表面进行烘烤,使其表面均匀上釉的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 碳化硅 陶瓷 表面 自动 均匀 上釉 装置 | ||
【主权项】:
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