[发明专利]一种开关元件的制备方法、阵列基板的制备方法和显示面板有效

专利信息
申请号: 202011327088.X 申请日: 2020-11-24
公开(公告)号: CN112530810B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: 林春燕;卓恩宗;郑浩旋 申请(专利权)人: 北海惠科光电技术有限公司;惠科股份有限公司
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336;H01L27/12;H10K59/12
代理公司: 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 代理人: 邢涛
地址: 536000 广西壮族自治区北海市工业园区北海大*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 本申请公开了一种开关元件的制备方法、阵列基板的制备方法和显示面板,所述开关元件的制备方法包括步骤:在衬底上形成具有第一宽度的多晶硅层;在多晶硅层上依次形成栅极绝缘层、栅极金属层和蚀刻阻挡层,所述栅极金属层具有一第二宽度,所述蚀刻阻挡层具有一第三宽度;对多晶硅层进行第一次离子注入形成过渡掺杂区;对蚀刻阻挡层进行灰化处理,得到具有第四宽度的蚀刻阻挡层;进行第二次离子注入,形成重掺杂区、未掺杂区和轻掺杂区;所述第四宽度大于等于所述第二宽度;通过增加蚀刻阻挡层,改变蚀刻阻挡层的宽度完成梯度离子注入,可以减少光罩,且栅极层宽度大于等于多晶硅层宽度,可以改善短沟道效应。
搜索关键词: 一种 开关 元件 制备 方法 阵列 显示 面板
【主权项】:
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