[发明专利]一种高可靠性氮化镓基功率器件及制备方法有效

专利信息
申请号: 202011332294.X 申请日: 2020-11-24
公开(公告)号: CN112599586B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 郝惠莲 申请(专利权)人: 上海工程技术大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/778;H01L21/3115;H01L21/335
代理公司: 上海唯智赢专利代理事务所(普通合伙) 31293 代理人: 姜晓艳
地址: 201620 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于半导体的技术领域,公开了一种高可靠性氮化镓基功率器件,自下而上包括衬底和氮化镓基层,在所述氮化镓基层的两端分别设置有源电极和漏电极,在其中部设置有栅电极,在所述栅电极和漏电极之间的区域自下而上还设置有阻隔层、钝化层,在所述栅电极和源电极之间的区域仅设置有钝化层,所述阻隔层用于减少氮化镓基层中电子陷阱的数量,并阻止栅电极的电子进入电子陷阱。还公开了一种高可靠性氮化镓基功率器件的制备方法。本发明的制备方法既能加快刻蚀过程,又能保证刻蚀完后凹槽表面的平整度,对凹槽法的产业化应用提供了更好的选择。
搜索关键词: 一种 可靠性 氮化 功率 器件 制备 方法
【主权项】:
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