[发明专利]刻划轮在审
| 申请号： | 202011333302.2 | 申请日： | 2020-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN113045194A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 阿部浩;田中茉纪 | 申请（专利权）人： | 三星钻石工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C03B33/10 | 分类号： | C03B33/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 焦秋晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供能够一边在基板形成足够深度的垂直裂纹，一边使端面强度提高的刻划轮。刻划轮(100)具备：多个刃部(101)，它们沿外周缘形成；多个槽部(102)，它们设置于在周向上相邻的刃部(101)之间且向中心轴(L0)侧凹陷。槽部(102)在沿与中心轴(L0)平行的方向观察时，槽部的端部的棱线所成的角度比槽部的最深部的棱线所成的角度大，所述端部的棱线所成的角度比155度大。 | ||
| 搜索关键词： | 刻划 | ||
【主权项】：
暂无信息
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