[发明专利]一种结构光场调控方法及系统有效
| 申请号： | 202011335654.1 | 申请日： | 2020-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN112415879B | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 方兆翔;陈露;师少光;张雅琴;张丁军;黄源浩;肖振中 | 申请（专利权）人： | 奥比中光科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03H1/04 | 分类号： | G03H1/04;G03H1/12 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 唐佳芝 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请适用于结构光场调控技术领域，提供一种结构光场调控方法及系统，通过生成与目标光场对应的第一灰度全息图；对所述第一灰度全息图进行二值化处理，得到第三灰度全息图；对所述第三灰度全息图进行误差补偿，得到第四灰度全息图；加载所述第四灰度全息图至数字微镜器件，根据所述第四灰度全息图像控制所述数字微镜器件中各微镜的开关状态，以调制入射至所述数字微镜器件的参考光束的光强度，得到与所述目标光场对应的目标光束，可以有效提高光场的精度、分辨率及光场调控的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 调控 方法 系统 | ||
【主权项】：
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