[发明专利]一种空洞的量测方法在审

专利信息
申请号: 202011338576.0 申请日: 2020-11-25
公开(公告)号: CN112630238A 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 刘军 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04;G01N23/041;G01N23/20;G01N23/20058
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 邵磊;张颖玲
地址: 430074 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请实施例提供一种空洞的量测方法,应用于扫描透射电子显微镜,所述方法包括:获取待测结构,其中,所述待测结构包括至少一个空洞;对所述待测结构进行减薄处理,得到处理后的待测结构,其中,所述处理后的待测结构在与所述空洞的延伸方向垂直的方向上具有第一预设厚度;采集所述处理后的待测结构的扫描透射电子暗场图像;通过所述扫描透射电子暗场图像,对所述空洞进行量测。
搜索关键词: 一种 空洞 方法
【主权项】:
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