[发明专利]一种用于超高真空的宽温区膜厚监测装置及监测方法在审
申请号: | 202011340422.5 | 申请日: | 2020-11-25 |
公开(公告)号: | CN112647125A | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 潘毅;李宇昂;吴迪;闵泰 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | C30B23/02 | 分类号: | C30B23/02;G01B21/08 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 安彦彦 |
地址: | 710049 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于超高真空的宽温区膜厚监测装置及监测方法,超高真空腔体内置有镀膜衬底和一个传感器探头;超高真空腔体底部设有蒸发源;传感器探头内设晶振片、加热板和测温元件,通过传感器探头连接温度控制器,对晶振片加热;通过传感器探头连接冷却介质装置,对石英晶振冷却;通过传感器探头连接膜厚显示仪,监测镀膜薄膜沉积厚度和标定沉积速率。它可以在较宽的温区范围内有选择地控制晶振片的温度,以模拟在各种镀膜过程中,衬底的不同温度条件,以至少解决现有技术中存在的在因晶振片温度与衬底温度不同而不能真实反映衬底上沉积的薄膜厚度的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 超高 真空 宽温区膜厚 监测 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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