[发明专利]一般电阻硅产品的蚀刻液及其蚀刻方法有效
| 申请号： | 202011340442.2 | 申请日： | 2020-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN112608753B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 王燕清 | 申请（专利权）人： | 重庆臻宝实业有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 李阳 |
| 地址： | 400050 重庆市九*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种一般电阻硅产品的蚀刻液，由氟化氢铵、硝酸钾、硫酸、过硫酸铵、聚乙二醇、磷酸和丙二醇嵌段聚醚水溶液组成。根据一般电阻硅产品的特性，改善传统以高浓度、高腐蚀性的氢氟酸和硝酸、醋酸、水配制的蚀刻液，利用氟化氢铵和硫酸适量配比时可以按照一定速率产生一定量的HF，和少量硝酸钾、过硫酸铵、磷酸配比后进行蚀刻。减少不完全或不均匀的蚀刻中产生的斑点或色差现象。反应均匀缓和，且粗糙度和蚀刻前一致，不加大粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 一般 电阻 产品 蚀刻 及其 方法 | ||
【主权项】：
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