[发明专利]一种基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法在审

专利信息
申请号: 202011341605.9 申请日: 2020-11-25
公开(公告)号: CN112499582A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 张云霄;孙文宝 申请(专利权)人: 天津津航技术物理研究所
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B81C3/00;G02F1/21
代理公司: 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 代理人: 周恒
地址: 300308 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明属于薄膜光谱滤波器制备工艺技术领域,具体涉及一种基于薄膜键合的可调谐FP滤光片的制备方法,包括以下步骤:①下金属反射层制作:基底采用热蒸发或离子束溅射镀膜方法制备FP滤波器下金属反射层;②铌酸锂薄膜通光层制备:采用离子注入、键合剥离方法制备;③上金属反射层制备:采用磁控溅射的方法制备;④上金属反射电极图形化制备:采用光刻、离子束刻蚀工艺制作上金属电极结构,完成可调谐FP滤光片制作。本发明方法克服了现有滤光片中心波长难以调谐的问题,且制作工艺简单,易于调控,可实现线列、瓦片式多谱段滤光片。
搜索关键词: 一种 基于 薄膜 调谐 fp 滤光 制备 方法
【主权项】:
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