[发明专利]一种可控硅器件在审
申请号: | 202011349302.1 | 申请日: | 2020-11-26 |
公开(公告)号: | CN112466940A | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | 李晓静;曾传滨;闫薇薇;高林春;倪涛;单梁;王加鑫;李多力;赵发展;罗家俊;韩郑生 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H01L29/74 | 分类号: | H01L29/74;H01L29/06;H01L27/02 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 房德权 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及可控硅静电保护技术领域,具体涉及一种可控硅器件。该结构中,N型阱区的上部设有第一空白掺杂区;任一等效结构均包括沿左右方向并排设置的第一N型重掺杂区和第二P型重掺杂区;任一等效结构均对应设置有第二多晶硅;P型阱区的上部设有第二空白掺杂区;第一多晶硅与第一空白掺杂区存在重合区,且覆盖第二空白掺杂区的顶部;硅化物阻隔层与第一P型重掺杂区存在重合区,并与第一多晶硅存在重合区,还覆盖第二空白掺杂区的顶部。本发明在N型阱区上设置了硅化物阻挡层,利用硅化物阻挡层良好的限流能力,并在N型阱区中设置了等效二极管区,实现提高了SCR的维持电压的目的,有效降低了SCR的漏电风险,提高了SCR的静电放电保护的性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 可控硅 器件 | ||
【主权项】:
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