[发明专利]一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置在审
申请号: | 202011357028.2 | 申请日: | 2020-11-27 |
公开(公告)号: | CN112267101A | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 靳伟;余海春;戴秀海 | 申请(专利权)人: | 光驰科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/50;C23C14/56 |
代理公司: | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人: | 周宇凡 |
地址: | 200444 上海市宝*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置,包括进出片室、镀膜室、搬运室以及外部基片架,其中搬运室设置在进出片室和镀膜室之间,搬运室内部设置有基片真空搬运系统,基片真空搬运系统用于实现进出片室和镀膜室之间的基片交换,进出片室和外部基片架之间通过外部机械手实现基片交换。本发明的优点是:1)在可实现自动搬运的同时,显著提高搬运效率;2)使不同的腔体的接口所需空间很小;这样可以使进出片室和镀膜室的可以留出更多的腔体空间进行工艺所需单元的布置,有利于设备的布局规划及工艺拓展;3)成膜的均匀性更好;同时,使一次镀膜工艺的产能增大;4)保证工艺的最优化,有效提高溅射工艺的成膜质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 自转 结构 自动 搬运 溅射 装置 | ||
【主权项】:
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