[发明专利]一种氰酸酯基抗辐照加固保形涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 202011357111.X | 申请日： | 2020-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN112509720B | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 李杨;卢松涛;崔凯;洪杨;吴晓宏;秦伟 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G21F1/12 | 分类号： | G21F1/12;G21F1/10;H01L23/552;C09D179/04;C09D7/65;C09D7/61;C09D7/63 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 裴闪闪 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种氰酸酯基抗辐照加固保形涂层及其制备方法。本发明属于辐照屏蔽材料及其制备领域。本发明的目的是为解决现有辐照屏蔽材料防护性能低下及膜层结合力差的技术问题。本发明的一种氰酸酯基抗辐照加固保形涂层由稀土树脂膜层和原子层沉积于稀土树脂膜层外表面的金属氧化物薄膜构成，所述稀土树脂膜层由稀土微粉、氰酸酯树脂、促进剂、偶联剂和聚醚酰亚胺混合熔融涂覆而成。制备方法：一、将氰酸酯树脂、促进剂、偶联剂、聚醚酰亚胺和稀土微粉混合熔融涂覆于电子元器件的管壳表面，分段固化得稀土树脂膜层；二、在稀土树脂膜层表面周期沉积生长金属氧化物，得到保形涂层。本发明的保形涂层在模拟剂量为100～200kGy的电子辐照下，辐射屏蔽率高达88.5％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氰酸 酯基抗 辐照 加固 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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