[发明专利]一种抑制大口径干涉仪中光学材料非均匀性影响的方法有效
| 申请号： | 202011357852.8 | 申请日： | 2020-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN112525071B | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 高志山;刘威剑;袁群;第五蔻蔻;王若言;季文 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | G01B9/02055 | 分类号： | G01B9/02055 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 朱沉雁 |
| 地址： | 210094 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抑制大口径干涉仪中光学材料非均匀性影响的方法，所述方法为大口径干涉仪中大口径准直透镜及TF标准平板的材料非均匀性的影响提供模拟仿真以及校正方案。首先在光学设计软件Zemax中建立扩束系统模型；采用多项式表征大口径光学材料的折射率非均匀性；采用Zemax中自定义面型实现对折射率三维分布的大口径准直透镜和标准平板的建模并模拟分析大口径材料折射率非均匀性的影响。在扩束系统准确建模的基础之上，通过优化小口径准直镜和TF标准平板前表面的面形参数来抑制大口径光学材料非均匀性的影响。本发明对大口径光学材料折射率三维分布精确建模，并通过优化小口径准直镜的参数来抑制大口径光学材料非均匀性影响，精度高且实用性好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抑制 口径 干涉仪 光学材料 均匀 影响 方法 | ||
【主权项】：
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