[发明专利]一种海尔贝克阵列磁体组件的一体充磁方法有效

专利信息
申请号: 202011359021.4 申请日: 2020-11-27
公开(公告)号: CN112530658B 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 孙航;魏启锋;孟辉 申请(专利权)人: 杭州智见控股集团有限公司
主分类号: H01F13/00 分类号: H01F13/00;H01F41/02
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 周红芳;朱盈盈
地址: 311500 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种海尔贝克阵列磁体组件的一体充磁方法,包括如下步骤:1)选用合适毛坯;2)先将毛坯组装方向的尺寸加工到指定尺寸;3)根据不同磁化方向对毛坯进行海尔贝克阵列组装,形成海尔贝克阵列组件;4)再将组装好的海尔贝克阵列组件加工至需求尺寸,形成海尔贝克阵列半成品;5)对海尔贝克阵列半成品进行表面处理;6)对进行表面处理后的海尔贝克阵列半成品进行一体充磁,形成海尔贝克阵列磁体。本发明的有益效果是:海尔贝克阵列磁体,采用先不充磁的方式组装,没有了排斥力的影响,员工操作安全系数增加,大大降低了装配难度。
搜索关键词: 一种 海尔 贝克 阵列 磁体 组件 一体 充磁 方法
【主权项】:
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