[发明专利]一种基于叔胺型两亲共聚物的荷正电纳滤膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011363839.3 申请日: 2014-12-04
公开(公告)号: CN112403286A 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 朱宝库;崔月;姚之侃;杜世媛;方立峰;许云秋;朱利平 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: B01D69/10 分类号: B01D69/10;B01D61/00;B01D67/00;B01D71/26;B01D71/40;B01D69/06;B01D69/08
代理公司: 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 代理人: 任霜
地址: 310027*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开一种基于叔胺型两亲共聚物的荷正电纳滤膜及其制备方法。所述纳滤膜由电中性的大孔支撑层和荷正电的致密功能层组成:大孔支撑层包含膜基体材料和叔胺型两亲共聚物,致密功能层包含交联的大分子季铵盐,致密功能层中的大分子季铵盐与大孔支撑层中的膜基体材料形成互穿网络结构。所述纳滤膜的制备方法为:(1)将膜基体材料和叔胺型两亲共聚物溶解于制膜溶剂制成电中性制膜液,通过溶液相转化的方法从凝固浴中固化,制成含叔胺型两亲共聚物的活性前体膜;(2)将活性前体膜在交联剂溶液中浸涂;(3)将浸涂后的膜取出,热处理,得到荷正电纳滤膜。本发明适用于多种通用制膜材料,可以制成平板膜或中空纤维膜,具有良好的工业化前景。
搜索关键词: 一种 基于 叔胺型两亲 共聚物 电纳 滤膜 及其 制备 方法
【主权项】:
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