[发明专利]一种激光光学元件高反射率测量方法有效

专利信息
申请号: 202011366027.4 申请日: 2020-11-29
公开(公告)号: CN112539920B 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: 达争尚;段亚轩;李铭;袁索超;李红光;陈永权;董晓娜 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G01M11/00
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 王凯敏
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 为了解决传统激光光学元件高反射率的测量方法测量精度不高的问题,本发明提出一种激光光学元件高反射率测量方法。本发明基于双光路干涉原理,采用空测+实测进行高反射率元件的反射率精确测量,两干涉光路的分光比例大,先获取空测的条纹对比度,然后在光路中加入待测高反射镜进行实测,获得实测的条纹对比度,通过干涉条纹对比度的变化计算待测高反射镜的反射率值,可以实现待测高反射镜反射率的溯源,实现高反射率的高精度测量。
搜索关键词: 一种 激光 光学 元件 反射率 测量方法
【主权项】:
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