[发明专利]电化学沉积设备组和电化学沉积方法在审
申请号: | 202011367346.7 | 申请日: | 2020-11-27 |
公开(公告)号: | CN112442725A | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
发明(设计)人: | 袁广才;闫俊伟;王成飞;张国才;董士豪;孙少东;齐琪;曹占锋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C25D19/00 | 分类号: | C25D19/00;C25D17/00;C25D7/00;C25D5/34;C25D5/48;C23G3/00;C23G1/36;C25D17/06;C25D3/38;C25D21/06;C23C22/76;C23C22/86 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 魏艳新;姜春咸 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 公开一种电化学沉积设备组和电化学沉积方法,电化学沉积设备组包括:电化学沉积装置,被配置为在基板的待镀膜区域形成电化学沉积膜层;抗氧化处理装置,位于所述电化学沉积装置的一侧,被配置为对形成有电化学沉积膜层的所述基板进行抗氧化处理;传输装置,被配置为装载所述基板,并至少带动所述基板从所述电化学沉积装置移动至所述抗氧化处理装置。 | ||
搜索关键词: | 电化学 沉积 设备组 方法 | ||
【主权项】:
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