[发明专利]一种可实现空间位移的电介质薄层和石墨烯的复合结构在审
| 申请号： | 202011373121.2 | 申请日： | 2020-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN112363252A | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 赵东 | 申请（专利权）人： | 湖北科技学院 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G02B5/08 |
| 代理公司： | 咸宁鸿信专利代理事务所(普通合伙) 42249 | 代理人： | 汪彩彩 |
| 地址： | 437100 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种可实现空间位移的电介质薄层和石墨烯的复合结构，属于光学技术领域。包括非厄米电介质薄层和两个石墨烯单层，两个石墨烯单层分别沉积在非厄米电介质薄层的两侧形成一个三层结构；在光波以非垂直入射角度由某一石墨烯单层穿过时，可提高共振态的反射率，且在共振态附近可以获得大的古斯‑汉森位移。本发明具有能够提高复合结构共振态的反射率和获得在共振态附近的较大古斯‑汉森位移等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实现 空间 位移 电介质 薄层 石墨 复合 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北科技学院，未经湖北科技学院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011373121.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：煤层气产量预测方法、装置及设备
- 下一篇：一种岩土压缩试验方法
