[发明专利]一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法在审
| 申请号： | 202011374575.1 | 申请日： | 2020-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN112379577A | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 吴明仓 | 申请（专利权）人： | 广东思沃激光科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 李金伟 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市松山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请适用于无掩膜光刻技术领域，提供了一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法，无掩膜光刻设备包括用于产生面阵光的照明装置、设置于照明装置发出的面阵光的光路上的数字微镜器件、用于承载待加工的基板的载物台组件、设置于载物台组件和数字微镜器件之间的投影物镜，以及电气连接载物台组件和数字微镜器件的控制单元；数字微镜器件具有多个纵横排列的微反射镜单元，微反射镜单元反射的面阵光经过投影物镜后在基板上形成刻蚀光斑；各刻蚀光斑沿第一方向和与第一方向垂直的方向纵横排列，且刻蚀光斑能够沿第二方向扫描照射基板，第一方向和第二方向之间的夹角θ为锐角。控制单元控制微反射镜单元偏转，使得基板上的印制电路具有连续可变性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 无掩膜 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
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