[发明专利]一种增透蓝光阻隔膜、增透全光系阻隔膜及量子点光学膜及其应用在审

专利信息
申请号: 202011376565.1 申请日: 2020-11-30
公开(公告)号: CN112363253A 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 郑威;张志宽;孙小卫 申请(专利权)人: 深圳扑浪创新科技有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115;G02B1/14;G02F1/13357
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 潘登
地址: 518000 广东省深圳市龙岗区布吉街道甘李*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种增透蓝光阻隔膜、增透全光系阻隔膜及量子点光学膜及其应用,所述增透蓝光阻隔膜包括基材层和位于基材层上下表面的增透蓝光AR层,所述增透蓝光AR层的结构包括依次层叠的第一Nb2O5层、第一SiO2层、第二Nb2O5层和第二SiO2层,所述位于基材层上下表面的增透蓝光AR层中均是第一Nb2O5层与基材层接触。所述增透全光系阻隔膜包括基材层和位于基材层下表面的增透全光AR层,所述增透全光AR层包括层叠在一起的Nb2O5层和SiO2层,所述增透全光AR层中Nb2O5层与基材层接触。量子点光学膜结合了增透蓝光阻隔膜和增透全光系阻隔膜,使得整体通过量子点光学膜的透过率相比原来的会提升10%左右。
搜索关键词: 一种 增透蓝光 阻隔 增透全光系 量子 光学 及其 应用
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