[发明专利]等离子体处理晶圆用载具及晶圆处理设备在审
| 申请号： | 202011376800.5 | 申请日： | 2020-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN112466740A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 孙虎 | 申请（专利权）人： | 上海诺硕电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/687 |
| 代理公司： | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人： | 黄海霞 |
| 地址： | 201508 上海市金山*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种等离子体处理晶圆用载具，所述载具包括托盘和边缘环，所述托盘放置晶圆，所述边缘环绕所述托盘周向设置，所述边缘环设有用于排出副产物的排出结构，所述排出结构贯穿所述缘环。本发明通过在所述边缘环设置所述排出结构，能将等离子体处理所述晶圆时产生的副产物实时排出所述载具，避免副产物在所述晶圆附近附着堆积而触碰到所述晶圆而对所述晶圆的边缘造成污染，防止干扰等离子体与所述晶圆的处理反应，有助于提高所述晶圆的生产质量。本发明还提供了一种晶圆处理设备，设置有所述的等离子体处理晶圆用载具。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 晶圆用载具 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海诺硕电子科技有限公司，未经上海诺硕电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011376800.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
